| 1. Identificação | |
| Tipo de Referência | Artigo em Revista Científica (Journal Article) |
| Site | mtc-m16.sid.inpe.br |
| Código do Detentor | isadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S |
| Identificador | 6qtX3pFwXQZ3r59YDa/FumFF |
| Repositório | sid.inpe.br/iris@1916/2005/03.18.12.23 (acesso restrito) |
| Última Atualização | 2005:05.09.03.00.00 (UTC) administrator |
| Repositório de Metadados | sid.inpe.br/iris@1916/2005/03.18.12.23.45 |
| Última Atualização dos Metadados | 2018:06.05.01.28.19 (UTC) administrator |
| Chave Secundária | INPE-12359-PRE/7663 |
| ISSN | 1380-2224 |
| Chave de Citação | BaranauskasCLPTCSL:2000:DiCoPo |
| Título | Diamond coating of porous silicon  |
| Ano | 2000 |
| Mês | Jan. |
| Data de Acesso | 18 maio 2024 |
| Tipo Secundário | PRE PI |
| Número de Arquivos | 1 |
| Tamanho | 206 KiB |
| 2. Contextualização | |
| Autor | 1 Baranauskas, V. 2 Chang, D. C. 3 Li, B. B. 4 Peterlevitz, A. C. 5 Trava-Airoldi, Vladimir Jesus 6 Corat, Evaldo Jose 7 Singh, R. K. 8 Lee, D. G. |
| Identificador de Curriculo | 1 2 3 4 5 6 8JMKD3MGP5W/3C9JH33 |
| Grupo | 1 LAS-INPE-MCT-BR |
| Afiliação | 1 Baranauskas V (reprint author), Univ Estadual Campinas, Fac Engn Eletr & Comp, Av Albert Einstein,N400, Campinas, SP BR-13083970 Brazil 2 Univ Estadual Campinas, Fac Engn Eletr & Comp, Campinas, SP BR-13083970 Brazil 3 Inst Nacl Pesquisas Espaciais, Lab Associado Sensores & Mat, Sao Jose Dos Campos, BR-12201 Brazil 4 Univ Florida, Dept Mat Sci & Engn, Gainesville, FL 32611 USA |
| Revista | Journal of Porous Materials |
| Volume | 7 |
| Número | 1-3 |
| Páginas | 401-404 |
| Histórico (UTC) | 2005-05-09 14:33:26 :: sergio -> administrator :: 2006-09-28 22:24:03 :: administrator -> sergio :: 2008-01-07 12:52:39 :: sergio -> administrator :: 2018-06-05 01:28:19 :: administrator -> marciana :: 2000 |
| 3. Conteúdo e estrutura | |
| É a matriz ou uma cópia? | é a matriz |
| Estágio do Conteúdo | concluido |
| Transferível | 1 |
| Tipo do Conteúdo | External Contribution |
| Palavras-Chave | porous silicon coating diamond on porous silicon diamond nucleation |
| Resumo | Diamond coatings on porous silicon (PS) samples have been obtained by the hot-filament chemical vapor deposition(CVD) technique. We focused our attention on the coating morphology, showing experimentally that high quality diamond coatings may be produced with the PS sample kept at 710 degrees C. The deposited patterns consist of polycrystalline grains with a plane interface with the PS layer. At 790 degrees C, the quality of the coating is improved but the PS layer becomes damaged, and at 650 degrees C the coating consists of diamond-like carbon particles. Besides the temperature, other factors such as the porosity, roughness and chemical activity of the PS layer deserve attention. We observed that one of the limiting factors of the deposition process was the high nucleation time. Two nucleation mechanisms are involved in the growth process. The first nucleation mechanism occurs on the top of the sharp PS features, subsequently to the nucleation a superficial film, and then a second nucleation mechanism occurs over this surface, which allows the growth process to continue. We also observed the presence of a blue-shift in the luminescence spectra following the coating. |
| Área | FISMAT |
| Arranjo | urlib.net > LABAS > Diamond coating of... |
| Conteúdo da Pasta doc | acessar |
| Conteúdo da Pasta source | não têm arquivos |
| Conteúdo da Pasta agreement | não têm arquivos |
| 4. Condições de acesso e uso | |
| Idioma | en |
| Arquivo Alvo | diamond coating.pdf |
| Grupo de Usuários | administrator sergio |
| Visibilidade | shown |
| Detentor da Cópia | SID/SCD |
| Política de Arquivamento | denypublisher denyfinaldraft12 |
| Permissão de Leitura | deny from all and allow from 150.163 |
| 5. Fontes relacionadas | |
| Unidades Imediatamente Superiores | 8JMKD3MGPCW/3ESR3H2 |
| Divulgação | WEBSCI |
| Acervo Hospedeiro | sid.inpe.br/banon/2003/08.15.17.40 |
| 6. Notas | |
| Campos Vazios | alternatejournal archivist callnumber copyright creatorhistory descriptionlevel documentstage doi e-mailaddress electronicmailaddress format isbn label lineage mark mirrorrepository nextedition notes orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project readergroup rightsholder schedulinginformation secondarydate secondarymark session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype typeofwork url versiontype |
| 7. Controle da descrição | |
| e-Mail (login) | marciana |
| atualizar | |